Źródło implantacji jonów produktów wolframu i molibdenu

opis produktu

Źródło implantacji jonów części wolframu i molibdenu

Implantacja jonów Źródło części wolframu i molibdenu jest ważnym procesem w produkcji półprzewodników.Systemy implantacyjne domieszkują płytki obcymi atomami w celu modyfikacji właściwości materiału, takich jak przewodnictwo czy struktura krystaliczna.Ścieżka wiązki stanowi centrum systemu implantacyjnego.Tutaj jony są generowane, skoncentrowane, znacznie przyspieszane i skupiane na wafelku z bardzo dużą prędkością.

Nasze komponenty i części zamienne wykonane z metali ogniotrwałych pomagają zapewnić, że proces ten jest jak najbardziej wydajny, precyzyjny i wolny od zanieczyszczeń.

Źródło implantacji jonowej części wolframu i molibdenu Opis

dostarczamy wysokiej jakości, precyzyjnie obrobione elementy molibdenowe i wolframowe do urządzeń przetwórczych stosowanych w produkcji półprzewodników, w tym implantacji jonów, MOCVD, CVD, PVD.
Nasze doświadczenie produkcyjne, wiedza fachowa i znajomość materiałów molibdenowych i wolframowych pozwalają nam dostarczać precyzyjnie obrobione komponenty, które spełniają Twoje specyfikacje.

Dostarczamy wolfram, molibden, tytan i zaawansowane komponenty ceramiczne oraz części zamienne do implantatora jonów w jakości OEM.
Nasze główne produkty, w tym katoda, komora łukowa, odrzutnik, płyta boczna/końcowa i łącznik w źródle jonów axcelis i implantatorze wariacyjnym, pracowały w procesie produkcyjnym wafli 12" i 16".

Komora łukowa wolframowo-molibdenowa o wysokiej czystości jest podstawową gwarancją chipów półprzewodnikowych.Wysokowydajne części wolframowe i molibdenowe ze źródłem jonów znacznie zmniejszają częstotliwość konserwacji maszyny i zapewniają zdolność produkcyjną klienta, która jest najlepszym wyborem dla klientów.

Źródło implantacji jonów części wolframu i molibdenu Zdjęcie:

Specyfikacje elementów implantacji jonów molibdenu